化學氧化法--氣相中有機胺類化合物的處理方法
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瀏覽:875次 發布時間:2015-2-7 | |||
有學者認為高溫下甲胺氣體分子催化氧化與溫度和壓力有很大關係,其分解機理包括C-N鍵單分子斷裂和H原子摘除反應形成HCN和H2。Kantak等闡述了氣態甲胺在流動態反應器中高溫氧化的反應路徑,詳細列出了甲胺的化學動力學反應方程式(包括350個基元反應和65個活性粒子間的反應),將高溫氧化反應和文獻中的H-C-O和H-C-O-N的化學反應進行分析並依據生成的NO、HCN產物推測了降解機理。研究發現,低溫(523 K)氧化時基本沒有HCN生成,而高溫條件下(1 160~1 600 K)會產生HCN。Kachina等研究了氣相中甲胺和二甲胺的光催化氧化,甲胺光催化氧化產物為NH3、N2O、NO2、CO2和H2O,而高溫催化氧化條件下甲胺被氧化為NH3、HCN、CO、CO2和H2O。采用單分子Langmuir-Hinshelwood模型描述了氣相甲胺的高溫催化氧化反應動力學: ![]() Fethi等研究了水汽和氧氣成分對VUV光解二甲胺氣體的影響,采用GC、GC/MS測定了不同條件下光解的中間產物的濃度變化。研究發現,光解生成了乙亞胺和四甲基甲二胺,但後者隻在高濃度時才產生,在氧氣存在下,還有硝基甲烷和甲酰胺生成。本課題組近期開展了207 nm KrBr準分子燈降解流動態二甲胺氣體的研究,考察了峰值電壓、輸入功率、氣體流速、初始濃度等對二甲胺去除率的影響,並討論了光效、能率、碳平衡和CO2選擇性,測定了降解產物。實驗表明,氣體流速為14.9 m3/h,峰值電壓為28.4 kV,二甲胺氣體的去除率可以達到59.9 %。 |
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